電鑄模具是通過電解使金屬沉積在鑄模上制造或復(fù)制金屬制品,采用能夠容易分離的鑄模材料（如低溫合金、鋁合金、某些非金屬）或使鑄模上形成一層鈍化膜（如在鋼模上鍍鉻、鈍化等
電鑄為什么那么難脫模?主要是阻劑的關(guān)系.我舉最難脫模的全像金屬板電鑄為例:
由於光阻劑并不會(huì)導(dǎo)電，因此我們必須依其刻蝕的條紋輪墊，附著上一層導(dǎo)電層，以使其能在化學(xué)電鑄槽中的電解液中導(dǎo)電進(jìn)行電鑄，而一般的導(dǎo)電層附著方式有三種:
a.噴銀法:系利用硝酸銀和強(qiáng)還原劑的反應(yīng)結(jié)果，而使硝酸銀中的銀離子還原成銀原子，當(dāng)光阻片已經(jīng)敏化處理后，則銀原子會(huì)附著在光阻片上，而形成導(dǎo)電層，其優(yōu)點(diǎn)在於處理迅速及操作方便、可做較大面積的光阻全像片、價(jià)格便宜等等，但其膜層的厚度及均勻度、附著力大小等等不易控制，因此須有熟練的技巧和特殊的配方，才會(huì)有優(yōu)良導(dǎo)電膜層。
b．化學(xué)沉積鎳:此方法可經(jīng)由良好的控制而得到不錯(cuò)的導(dǎo)電層，一般它須要在高溫浴之下進(jìn)行反應(yīng)，一但光阻片的處理不當(dāng)，很容易在其過程之中，將使其光阻剝離或形成裂縫，且其將來的化學(xué)藥劑的廢棄處理亦是一大問題。
c．真空蒸鍍法:真空蒸鍍可說是最好的附著導(dǎo)電層處理方式，但是由於真空蒸鍍機(jī)的設(shè)備問題、操作技術(shù)及真空度要求等原因，使一般人較少使用。由於其鍍層的厚度及均勻度、附著力等等有最佳的品質(zhì)控制，其厚度可控制在數(shù)百A之間，不會(huì)影響將來電鑄后的品質(zhì)，甚至可得最佳的品質(zhì)效果，且其蒸鍍耗材的消耗量也相當(dāng)?shù)男 ?/div>
電鑄模具過程:當(dāng)在光阻片附著導(dǎo)電層后，利用導(dǎo)電銅條的接引，使其與陰極相接，然后放入電鑄槽的電解溶液中，進(jìn)行電鑄鑄膜的程序，使電解液中被還原出的金屬原子沿著原先有導(dǎo)電層的條紋輪墊上附著上去，如此一直的累積直到其膜層厚度到達(dá)約0.3mm或更厚為止，即可停止電鑄，并取下已鑄有金屬層的光阻片，同清水沖洗乾凈。
金屬板剝離:設(shè)法使玻璃片基與金屬鍍層分離，由於金屬板上會(huì)有光阻劑的殘留，故可將其浸入ShipleyAZ-303A顯影液中，使其殘留的光阻劑被溶解去除，并用清水沖洗乾凈后，加以烘乾即得一張全像金屬母板。
